芯片设备龙头中微宣布进军3纳米，研发人均月薪5.5万不及腾讯

8月24日晚间，A股半导体设备龙头中微公司发布了半年报。根据半年报，2021年上半年，中微公司实现营业收入13.39亿元，同比增长36.82%，实现归属于上市公司股东净利润3.97亿元，同比增长233.17%。

研发人均月薪增到5.5万元

中微公司是国内刻蚀机龙头，刻蚀是芯片制造的一个重要工艺，指的是利用化学途径选择性地移除芯片表面或表面覆盖的薄膜。2004年，公司董事长尹志尧放弃美国百万年薪，带领15人小团队回国创办了中微。目前中微的设备已打入台积电、中芯国际、意法半导体等制造和封测客户。

2019年的招股书中，中微公司曾披露，因为开发出了与美国设备公司具有同等质量和相当规格的等离子体刻蚀设备并实现量产，美国商务部在 2015 年宣布解除了对我国等离子体刻蚀设备多年的出口管制。

与业绩提升相对应的是，中微公司上半年加大了研发投入，开支2.86亿元，相较去年同期增长38.1%。公司的研发人数也从去年同期的298人增加至348人。公司业绩变好，员工也得到了加薪，半年报披露，研发人员平均薪资由去年同期的29.74万元增长到33.17万元，平均月薪达到5.5万元。这个数字看着不错，但与刚刚发半年报的腾讯相比，还有差距。根据腾讯半年报，腾讯员工上半年人均月薪7.8万元。

研报披露已在进军3nm工艺

通常来说，建设一座晶圆厂，70%的投资都主要用于购买设备。刻蚀设备、光刻设备、薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中最重要的三类，在不少先进的晶圆厂，刻蚀设备在整体设备中的投资中能达到25%到30%，甚至在部分NAND闪存生产线上的投资接近50%。

中微公司称，目前CCP刻蚀机已在5nm器件上实现量产，并在5纳米以下器件的试生产上实现了突破性的进展。用于更小器件、厚度薄的软材料的ICP刻蚀机则在高速发展阶段。

目前，中微半导体的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65nm到14nm、7nm和5nm及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司2021年上半年刻蚀设备收入为8.58亿元，较去年同期增长约83.79%，毛利率达到44.29%。

在研项目中披露，中微公司现在已经在进军3nm工艺。目前已完成3nm刻蚀机Alpha原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估。

从刻蚀机起家后，中微的产品线逐步拓展到MOCVD（薄膜沉积设备）和VOC净化设备领域。上半年MOCVD设备营收2.19亿元同比下降10.08%，但该项业务毛利率达到30.77%，较去年同期大幅提升。

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