曾领先世界的中国光刻机，因何走向没落？

如果要问，我们被国外卡脖子的技术有哪些，首先想到的肯定是光刻机。

这个号称人类工业皇冠上的明珠，是制造芯片的核心装置，也是横在我国冲击高端制造业面前的一座大山。

其实光刻机的原理倒不难，关键是在于精度，每一个线条和深孔的加工精度，如同在头发丝直径的几千万分之一的面积上，进行着50至60层大楼的建设。所以就算是如今的光刻机巨头荷兰ASML，都需要许多国家提供相应的配件也才能生产出来。

但是你知道吗，在那个吃不饱、穿不暖、一穷二白的年代，中国的光刻机就曾以一己之力站上过世界之巅，而彼时荷兰光刻机生产巨头ASML尚未成立。

50年代的新中国百废待兴，光刻机就是横隔在技术自主道路上的一座“珠峰”。在1966年，中国的攀爬取得胜利，我们自主研制的65型接触式光刻机正式落地。

此时涉足这一制造工艺的国家全世界只有两个，美国和中国。要知道，中国此时尚未加入世贸体系，所有环节完全独立自主。

80年代初，中国光刻机研发继续一路高歌，1981年，Jk-1半自动接近式光刻机诞生，仅过了三年，中国研制出分布光刻机样，性能指标直逼当时如日中天的美国的4800DSW光刻机。

本以为中国光刻机的辉煌征程即将开始，谁也没料到那就是巅峰。为什么会这样呢？

首先是经济比较落后，搞科研是需要大量的资金投入。但在80年代，中国经济比较落后，部分地区甚至连温饱都成问题。光刻机的研发面临着非常大的资金压力，一些企业陆续出现了倒闭。

其次是，改革开放后，自主创新意识受到了冲击。随着发达国家先进的技术设备纷纷进入中国，“买办思想”占据了主流，认为“造不如买，买不如租”。于是一大批企业便逐渐放弃了光刻心的研发。

最后与国际制裁有关。虽然有西方国家给我们出口设备技术。但是在1996年的瓦森纳协定中，西方国家对中国半导体技术及光刻机等设备的出口，一般都比最先进技术落后两代，加上审批过程的拖延，所以，中国能拿到设备技术永远是落后的。

基于以上三方面的原因，我国光刻机研发和产业开始停滞不前了。

但回望古今，此前我们就有着足够的能力，在光刻领域和西方国家掰手腕，虽然在经历一些事情使得研发落后，在从新重视光刻领域的发展之后，追上也是迟早的事。

ASML公司的总裁就曾说过“如果不把光刻机卖给中国，大概三年，中国自己就会掌握这门技术”。

现在以米国为首的一些国家，联合对中国光刻机卡脖子，想以此要挟中国妥协。殊不知这样只会促使我们加快技术自主的步伐，真到那一步，以中国这种规模的工业国家，怕是发达国家全都没饭吃了。

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