央视报道：ASML始料未及，中国光刻机再度迎来突破，或打破垄断

众所周知，EUV光刻机制造难度可以说是相当巨大的，因此就算是荷兰的ASML每一年的产能也就三十台，可见其制造的难度是相当巨大的。每一台生产出来的光刻机所有的零件加起来就有10万颗之多，这其实是全世界数千家工厂共同努力的结果。说实话单单靠这一家企业，甚至一个国家是无法将EUV光刻机生产出来的。如果说世界上有一个国家能够独立生产出光刻机，那首当其冲的便是我国，因为我国目前是全世界工业体系最完整的一个国家，这一点优势不可比拟。

其实估计大家并非很清楚，中国企业是有对光刻机有进行整机制造的研发投入的，这一点也可以说是未雨绸缪，从这次的芯片禁令就能够看出这样的布局多么重要，例如上海微电子还有华卓精科在这一块深耕多年。科益虹源在光刻机激光技术研究也是相当有造诣。还有我们的顶尖院校清华大学在EUV光源也是投入了专项的研究经费，成果也是喜人，研发的SSMB光源可能会将光刻机核心关键点光源技术攻破。

另外这样的研究，中科院怎能甘于人后。中科院其实很早就在光刻机的难点上进行攻关布局，伴随着科学家们的研发，的确拥有了相当长远的进步。前段时间，央视也是报道了一则喜讯，国产首台高能光源极其也已经步入了安装调试这一阶段。这个设备便是中国科学院的高能物理研究所自主研发的，可以说突破了这一高能辐射光源领域安装以及运用的诸多问题。

这也是国内首次将高能量的辐射光源研发成功，而且这个技术还是目前全球领先的，第四代超高亮度辐射光源。这也就意味着光刻机的核心光源技术已经实现了国产化，对于中国光刻机的研究具有里程碑意义，美国这一次也是万万没料到。

这的确是一个振奋人心的消息，如果说光刻机是工业生产上的“皇冠”，那么光源技术便是其中最为璀璨的珠宝。荷兰的ASML，就是由于，采用了美国的光源技术，所以才答应美国的要求，不向中国再出售光刻机产品。

不过伴随着我国逐渐将EUV光刻机核心关键技术一一突破。相信不久的将来，国产光刻机也就会跟大家所见面，化被动为主动，可以显著帮助我们摆脱对于国外技术的依赖，真正的实现自给自足，在未来的半导体领域牢牢掌握主动权。

除了这则好消息之外，还有还有好消息传来，当下国产光刻机处于领先地位的上海微电子已经在于28nm制程的光刻机生产上取得了突破，量产可以说是指日可待。但是更加高端的光刻机设计生产仍然需要继续攻关研发，只有不断的在研发上进行投入。才有可能真正意义上实现逆转，希望国产光刻机可以再度有好消息传出，大家如何觉得呢，欢迎留言评论！

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