“奇袭”荷兰ASML，日企攻克技术壁垒，绕开EUV光刻机，实现5nm

理财鱼小提示：“奇袭”荷兰ASML，日企攻克技术壁垒，绕开EUV光刻机，实现5nm

受众所周知的原因影响，近年来越来越多的普通消费者开始了解到光刻机的攻关对于中国半导体产业打破海外垄断的重要性，尤其是EUV光刻机。

随着芯片制程的不断萎缩，集成电路行业即将面临物理极限，为了将摩尔定律延续下去，芯片行业便将希望寄托在专业晶圆制造商以及光刻机制造商的身上。

放眼全球光刻机制造领域，唯一一家能够批量生产EUV光刻机的当属荷兰ASML。这位巨头也不负众望，已经研制出下一代高精度光刻机，可以实现2nm及以下超高精度芯片的光刻作业。

日本企业攻克技术壁垒

虽然这是一件值得高兴的，但对于中国半导体产业、光刻机市场ASML的竞争者，以及没有太多资金用来购买高精度光刻机的专业晶圆代工厂而言，却并不是个好消息。

毕竟ASML的技术突破，意味着彼此之间的差距被进一步拉大，在超高精度芯片的制造上也会比台积电、三星电子等更慢。

不过，国内外相关企业以及科研院所，并没有因此而放弃对EUV光刻机或者可以绕开EUV光刻机的芯片制造技术的攻关。

日前，日本铠侠便传来了好消息。根据日本媒体报道，日本铠侠公司及其合作伙伴成功开发出了一种可以不使用EUV光刻机，便能够制造出5nm制程芯片的工艺。

该工艺被称为NIL（纳米压印光刻）新工艺，相较于极紫外光工艺，NIL新工艺无需使用EUV光刻机，也不需要使用镜头。

所以，该工艺不仅在很大程度上降低了设备的投入成本，还具备更低的能耗。有数据显示，NIL新工艺的耗电量仅仅相当于EUV工艺的10%。

根据铠侠公司透露，目前已经掌握了15nm的量产技术，NIL技术的电路精细程度可以达到5nm，但现在尚未实现量产。

不过这个消息已经为集成电路产业带来了希望，尤其是对于中国半导体产业而言，NIL新工艺不失为一个可以通过创新，提前打破海外垄断的方向。

国产芯片有望“弯道超车”

虽然说，集成电路领域没有弯道超车，但工艺或者技术替代，却可以大幅缩短国内与国际的差距，从某种程度上来讲算是一种捷径。

而且，NIL工艺一直受到业内的广泛关注，并且被认为是微纳加工领域第三代最有前景的光刻技术之一。

因为NIL工艺基于的是机械复制，不会受到光学衍射的限制。值得一提的是，公开资料显示，NIL工艺还可以潜在地实现5nm以下的分辨率。

如果国内能够尽快实现NIL工艺上的突破，那么将有很大概率可以绕开被海外禁售的EUV光刻机，掌握芯片领域更多的自主权。

另外，NIL工艺的前景如何，NIL设备的销售规模也可以证明。根据Yole统计的结果可知，预计在2024年，NIL设备的年收入将达到1.45亿美元。

不过，NIL工艺并非完美适用于集成电路行业所有细分领域。笔者了解到，目前来看NIL工艺主要被应用于增强现实、3D传感以及数据通信等领域的光学光子元件制造。

与此同时，NIL工艺还适用于NAND产品，并且现阶段已经引起了不少存储芯片供应商的注意。

毕竟如今上游原材料价格持续上涨，全球缺芯潮持续蔓延，若是能够利用NIL工艺取代光刻方案，那么芯片制造成本将被大幅降低，厂商自然也会因此掌握更大的利润空间。

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